财会经济>中级经济师 > 知识产权专业知识与实务 > 第四章 专利保护
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单选题
编号:5723194
1.根据专利法,下列权利要求存在不清楚缺陷的是( )。
A.一种半导体制造方法,其特征是采用硅晶圆作为基底进行光刻制造
B.一种如权利要求1所述的汽车雨刷器,其特征是所述雨刷器上的合成橡胶包括橡胶或塑料
C.一种照相机,其特征是包括机身与镜头
D.一种合金热处理方法,其特征是热处理温度为500~800℃
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